Explore full metrics on Scilit
(Calculated once Scilit publication data is synced: current year − year of first publication + 1)
<mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:mi>k</mml:mi></mml:mrow></mml:math>k <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:mi>polySi</mml:mi><mml:mtext>-</mml:mtext><mml:msub><mml:mi>SiO</mml:mi><mml:mrow><mml:mn>2</mml:mn></mml:mrow></mml:msub><mml:mtext>-</mml:mtext><mml:msub><mml:mi>ZrO</mml:mi><mml:mrow><mml:mn>2</mml:mn></mml:mrow></mml:msub><mml:mtext>-</mml:mtext><mml:msub><mml:mi>SiO</mml:mi><mml:mrow><mml:mn>2</mml:mn></mml:mrow></mml:msub><mml:mtext>-</mml:mtext><mml:mi>Si</mml:mi></mml:mrow></mml:math>polySi-SiO2-ZrO2-SiO2-Si (SOZOS) memory device. In this approach, the trapping layer was formed through simple two steps: (i) spin-coating of the <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mi>ZrCl</mml:mi><mml:mrow><mml:mn>4</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>ZrCl4 precursor and (ii) rapid thermal annealing for <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:mn>1</mml:mn><mml:mspace width="0.3em"></mml:mspace><mml:mi>min</mml:mi></mml:mrow></mml:math>1min at <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:mn>900</mml:mn><mml:mo>°</mml:mo><mml:mi mathvariant="normal">C</mml:mi></mml:mrow></mml:math>900°C under an oxygen atmosphere. The morphology of the <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mi>ZrO</mml:mi><mml:mrow><mml:mn>2</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>ZrO2 charge trapping layer was confirmed through X-ray photoemission spectroscopy analysis. The sol-gel-derived layer exhibited improved charge trapping in the SOZOS memory device, resulting in a threshold voltage shift of <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:mn>2.7</mml:mn><mml:mspace width="0.3em"></mml:mspace><mml:mi mathvariant="normal">V</mml:mi></mml:mrow></mml:math>2.7V in the <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mi>I</mml:mi><mml:mi>d</mml:mi></mml:msub><mml:mtext>-</mml:mtext><mml:msub><mml:mi>V</mml:mi><mml:mi>g</mml:mi></mml:msub></mml:mrow></mml:math>Id-Vg curve, <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">P</mml:mi><mml:mo>∕</mml:mo><mml:mi mathvariant="normal">E</mml:mi></mml:mrow></mml:math>P∕E (program/erase) speeds as fast as <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:mn>0.1</mml:mn><mml:mspace width="0.3em"></mml:mspace><mml:mi mathvariant="normal">ms</mml:mi></mml:mrow></mml:math>0.1ms , good data retention up to <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:msup><mml:mrow><mml:mn>10</mml:mn></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>4</mml:mn></mml:mrow></mml:msup><mml:mspace width="0.3em"></mml:mspace><mml:mi mathvariant="normal">s</mml:mi></mml:mrow></mml:math>104s (only a 5% charge loss due to deep trapping in the <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mi>ZrO</mml:mi><mml:mrow><mml:mn>2</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>ZrO2 layer), and good endurance (no memory window narrowing after <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:msup><mml:mrow><mml:mn>10</mml:mn></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>5</mml:mn></mml:mrow></mml:msup></mml:mrow></mml:math>105 <mml:math display="inline"><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">P</mml:mi><mml:mo>∕</mml:mo><mml:mi mathvariant="normal">E</mml:mi></mml:mrow></mml:math>P∕E cycles).