Thin films of tin dioxide were obtained from five-water tin tetrachloride by dissolution in 97% ethanol. The concentration of tin ions in the film-forming solution was 0.12 mol/l, 0.16 mol/l, 0.2 mol/l. The film-forming solution SnCl4/EtOH was applied to the surface of glass substrates by a modified dipping method. Substrates were dried in the air and then annealed at 400°C. Just 4 layers were applied. Hydrogen plasma treatment was carried out at a pressure of 6.5 Pa, power of 20 Watts, oscillation frequency generated by the equipment 27.12 MHz ±0.6%. The decrease of transparency, within the limits of accuracy of measurement of the films obtained from film-forming system with a concentration of tin ions of 0.12 mol/l and 0.2 mol/l were observed. The transparency of the films obtained from film-forming systems with tin ion concentration 0.16 mol/l decreased by 3%. The resistance of the films decreased by 1.5 times. X-ray diffraction analysis showed an increase in the intensity of diffraction peaks from the planes of SnO2 crystallites. An important technical result was obtained: a decrease in the resistance of SnO2 thin films without a significant decrease in transparency, using a film-forming solution with a tin ion concentration of 0.12 mol/l and 0.2 mol/l after treatment for 3 minutes in hydrogen plasma. 4-валентті қалайы оксидінің жұқа қабықшалары судың бестік қалайы тетрахлоридтің 97%-ті этанолда ерітуімен алынған. Қабықша құраушы ерітінді жүйесінде қалайы иондарының концентрациясы 0,12 моль/л, 0,16 моль/л, 0,2 моль/л болды. Олар ауада кептіріліп, одан кейін 4000 С температурасында муфельді пешке жағылды. Барлығы 4 қабатты қабықшалар болды. Сутекті плазмамен өңдеу қысымы 6,5 Па, қуаты 20 Ватт, генератордың жұмыс істеу тербеліс жиілігі 27,12 МГц± 0,6% кезінде жүргізілді. Қалайы иондарының концентрациясы 0,16 моль/л болатын қабықша құраушы ерітіндіден алынған қабықшалардың мөлдірлігі 3% - ға азайды. Қабықшалардың кедергісі 1.5 есе азайды. Рентгенқұрылымдық талдау SnO2 кристаллдарының жазықтығынан дифракциялық шыңдардың қарқындылығын көрсетті. Соңында маңызды техникалық нәтиже алынды: мөлдірлікті айтарлықтай азайтпай, қалайы иондарының концентрациясы 0,12 моль/л және 0,2 моль/л болатын қабықша құраушы ерітіндіден алынған қабықшалардың сутегі плазмасында 3 минут ішінде өңдегеннен кейін SnO2 жұқа қабықшаларының кедергісі азайтылды. Тонкие пленки оксида олова получали из пятиводного тетрахлорида олова растворением в 97% этаноле. Концентрация ионов олова в пленкообразующей системе была 0,12 моль/л, 0,16 моль/л, 0,2 моль/л. Пленкообразующую систему SnCl4/EtOH наносили на поверхность стеклянных подложек модифицированным методом окунания. Сушили на воздухе и затем отжигали при 400оС. Было нанесено 4 слоя. Обработка водородной плазмой проводилась при давлении 6,5 Па, мощности 20 Ватт, частоте колебаний создаваемых генератором 27,12 МГц±0,6%. Обнаружено уменьшение прозрачности, в пределах точности измерений, пленок, полученных из пленкообразующей системы с концентрацией ионов олова 0,12 моль/л и 0,2 моль/л. Прозрачность пленок, полученных из пленкообразующей системы с концентрацией ионов олова 0,16 моль/л уменьшилось на 3%. Сопротивление пленок уменьшилось в 1,5 раз. Рентгеноструктурный анализ показал рост интенсивности дифракционных пиков от плоскостей кристаллитов SnO2. Получен важный технический результат: уменьшение сопротивления тонких пленок SnO2 без значительного уменьшения прозрачности, при использовании пленкообразующей системы с концентрацией ионов олова 0,12 моль/л и 0,2 моль/л после обработки в течение 3 минут в водородной плазме.